半导体晶圆五槽超声波清洗机

半导体晶圆五槽超声波清洗机是一种用于清洗半导体晶圆的设备。它通常由五个清洗槽组成，每个槽都具有超声波发生器和相应的清洗液。这种清洗机的主要目的是去除晶圆表面的污染物，以确保晶圆在后续工艺步骤中的质量和性能。 清洗槽中的超声波发生器会产生高频声波，通过液体传播并产生强大的声波振动。这些声波振动可以产生微小的气泡，并在其破裂时释放出能量，从而形成涡流和冲击波，有效地清洗晶圆表面。超声波清洗具有高效、非接触和均匀清洗的特点，可以去除晶圆上的颗粒、油脂、化学残留物等各种污染物。 产品特点 1、多槽设计：该清洗机通常由五个清洗槽组成，每个槽都有特定的功能和清洗液。多槽设计可以满足不同的清洗需求，例如预清…